sputter oor Koreaans

sputter

werkwoord, naamwoord

Moist matter thrown out in small detached particles; also, confused and hasty speech.

Vertalings in die woordeboek Engels - Koreaans

튀기다

Verb

voorbeelde

The transparent conductive film of the present invention is formed simply by a sputtering process without a wet-etching process.
본 발명의 투명 도전막은 습식 에칭 공정이 필요없는 스퍼터링 공정만으로 형성된다.

Fabrication process for a thick film by magnetron sputtering
마그네트론 스퍼터링에 의한 후막제조방법

According to the present invention, a material (for example, Ga2O3) having excellent transmittance is sputtered with a material (for example, ITO) having excellent electric conductivity in an ultraviolet area to form a single transparent electrode layer.
본 발명은 자외선 영역에서 투과도가 뛰어나 물질(예컨대, Ga2O3)과 전기전도도가 뛰어난 물질(예컨대, ITO)을 함께 스퍼터링하여 단일층의 투명 전극을 형성함으로써, 각각의 물질 단독으로 투명 전극을 형성하거나, 각각의 물질은 순차적으로 증착하여 2개의 층으로 투명 전극을 형성하는 경우보다, 자외선 영역에서의 광투과도 및 전기전도도가 모두 뛰어난 투명전극을 형성할 수 있다.

Cylindrical sputtering cathode
원통형 스퍼터링 캐소드

Titanium-nickel alloy thin film, and preparation method of titanium-nickel alloy thin film using multiple sputtering method
타이타늄-니켈 합금박막 및 다중 스퍼터링법을 이용한 타이타늄-니켈 합금박막의 제조 방법

The present invention relates to a method for regenerating a spent sputtering target, and a sputtering target regenerated thereby, the method comprising: (S1) a step for removing impurities from the surface of a spent sputtering target; (S2) a step for injecting the spent sputtering target, from which the impurities have been removed, into a mold; (S3) a step for forming a laminate by filling the spent sputtering target injected into the mold with raw material powder and planarizing the spent sputtering target; (S4) a step for forming a molded body by applying compression to the laminate; and (S5) a step of sintering the molded body.
본 발명은 스퍼터링 폐 타겟의 재생방법 및 이에 의해 재생된 스퍼터링 타겟에 관한 것으로서, 상기 방법은 S1) 스퍼터링 폐 타겟의 표면으로부터 불순물을 제거하는 단계; S2) 상기 불순물이 제거된 스퍼터링 폐 타겟을 몰드에 투입하는 단계; S3) 상기 몰드에 투입된 스퍼터링 폐 타겟에 원료 분말을 충진하고 평탄화하여 적층체를 형성하는 단계; S4) 상기 적층체에 압력을 가하여 성형체를 형성하는 단계; 및 S5) 상기 성형체를 소결하는 단계를 포함한다.

The present invention relates to a production method for a high purity copper (Cu) powder material used, by way of example, in penetrator liners and the production of sputtering targets in the electronics industry.
본 발명은 전자산업의 서퍼터링 타겟재의 제조 및 관통자 라이너 등에 사용되는 고순도 구리(Cu) 분말재료의 제조방법에 관한 것이다.

In addition, another purpose of the present invention is to provide an alloy target for sputtering, manufactured by using the crystalline alloy, and a method for manufacturing same.
본 발명은 비정질 형성능을 가지면서도 열적 안정성이 비정질에 비해 현저하게 우수한 비정질 형성능을 가지는 결정질 합금 및 그 제조방법의 제공을 목적으로 한다. 또한 본 발명은 상기 결정질 합금을 이용하여 제조한 스퍼터링용 합금타겟 및 그 제조방법의 제공을 또 다른 목적으로 한다.

Magnetron sputtering device equipped with magnetron cooling portion
마그네트론 냉각부를 구비한 마그네트론 스퍼터링 장치

The present invention relates to a sputtering power supply apparatus, repeatedly applying a pulse signal interval and a black signal interval to a cathode unit of a sputter.
스퍼터 전원 장치에 관한 것으로, 펄스 신호 구간과 블랙 신호 구간을 반복적으로 스퍼터의 캐소스부에 인가한다. 펄스 신호 구간은 캐소드부에 제1 단차 전압을 발생시키는 제1 펄스 신호 열과, 제1 펄스 신호 열에 인접하고 캐소드부에 제1 단차 전압보다 높은 제2 단차 전압을 발생시키는 제2 펄스 신호 열을 포함하여 구성된다.

Sputter target having stepped structure and sputtering device using same
단차구조를 포함하는 스퍼터 타켓 및 이를 이용하는 스퍼터링 장치

Roll-to-roll sputter system comprising a plurality of chambers, and method for using same
복수의 챔버를 구비한 롤-투-롤 스퍼터 시스템 및 그 사용방법

The present invention relates to a sputtering device having a dual chamber.
본 발명의 가장 큰 특징은 스퍼터링 장치의 챔버를 기판 챔버와 마그네트론 챔버로 분리하고 분리벽의 일부로서 스퍼터링 타겟을 이용함으로써, 압력조절처리해야 할 공간을 줄여서 작은 공간을 차지하는 장치에서도 대면적 기판에 공정을 진행할 수 있도록 하였다는 것이다.

At best, the nuclear firepower of those nations will sputter like a wet firecracker when Christ dashes his enemies to pieces as he would vessels of clay. —Psalm 2:8, 9; Revelation 16:14, 16; 19:11-13, 15.
그리스도께서 질그릇을 부수듯이 적들을 산산조각이 되게 하실 때, 이 나라들이 가지고 있는 핵무기의 화력은 기껏해야 타다 마는 젖은 폭죽 정도밖에 안 될 것입니다.—시 2:8, 9; 계시 16:14, 16; 19:11-13, 15.

Double-chamber magnetron sputtering device
이중 챔버 마그네트론 스퍼터링 장치

In addition, heavy ions precipitate continuously on Ganymede's polar surface, sputtering and darkening the ice.
또한, 무거운 이온은 지속적으로 가니메데의 극 표면으로 침전되면서 스퍼터링하고 얼음을 어둡게 만든다.

Method for regenerating spent sputtering target, and sputtering target regenerated thereby
스퍼터링 폐 타겟의 재생방법 및 이에 의해 재생된 스퍼터링 타겟

The roll-to-roll sputter system for the deposition on both sides of a substrate according to the present invention performs deposition for a plurality of substrates in a quick and easy manner, reducing the amount of labor for workers, thereby shortening work time and improving work efficiency.
본 발명의 기판 양면 증착을 위한 롤-투-룰 스퍼터 시스템은 기판 양면 증착 작업을 별도의 번거로움 없이 신속하게 대량으로 처리함으로 시간단축 및 작업 효율을 향상 시키는 장점이 있다.

Method for manufacturing a molybdenum sputtering target for a back surface electrode of a cigs solar cell
CIGS 태양전지의 배면전극용 몰리브덴 스퍼터링 타겟 제조방법

Disclosed is a fabrication process for a thick film by magnetron sputtering.
마그네트론 스퍼터링에 의한 후막제조방법이 개시된다.

Using the cylindrical sputtering cathode of the invention to control the distance between a target and a magnet or the distance between magnets, properties of the thin film remain unchanged but are maintained equally by adjusting the intensity of a surface magnetic field.
또한, 본 발명의 원통형 스퍼터링 캐소드는 타겟과 마그네트 사이의 거리 또는 마그네트 간의 거리를 조절함으로써 표면자기장의 세기를 조절하여 박막의 특성이 변하지 않도록 균일하게 유지할 수 있는 장점이 있다.

But after 120 miles [200 km], it sputters to a stop until its batteries can be recharged for at least three hours.
그러나 200킬로미터를 달리고 나면 이 차는 덜컹거리며 멈춰서, 배터리를 적어도 세 시간 동안 충전해야 합니다.

In addition, another objective of the present invention is to provide an alloy target for sputtering prepared using the crystalline alloy, and a preparation method thereof.
본 발명은 비정질 형성능을 가지면서도 열적 안정성이 비정질에 비해 현저하게 우수한 비정질 형성능을 가지는 결정질 합금 및 그 제조방법의 제공을 목적으로 한다. 또한 본 발명은 상기 결정질 합금을 이용하여 제조한 스퍼터링용 합금타겟 및 그 제조방법의 제공을 또 다른 목적으로 한다.

The method comprises the steps of: (a) providing a substrate; (b) laminating a Ge-Sb-Te phase change material and doping a crystallization-inducing material on the substrate through sputtering without use of catalyst materials, in order to form a thin film comprising the Ge-Sb-Te phase change material doped with the crystallization inducing material on the substrate; and (c) preferentially bonding the crystallization inducing material with Ge by annealing the substrate on which the thin film is formed inside a reactor, then performing phase separation through the formation of a phase change material Sb2Te3 by bonding an excess of Sb and Te, in order to grow the single crystal nanowires consisting of Sb2Te3 on the thin film.
본 발명에 따라서 Sb2Te3 단결정 나노와이어를 제조하는 방법이 제공되는데, 상기 방법은 (a) 기판을 제공하는 단계와, (b) 촉매 물질을 사용하지 않으면서, 상기 기판 상에 스퍼터링에 의해, Ge-Sb-Te 상변화 물질을 적층함과 아울러 결정화 유도 물질을 함께 도핑하여, 상기 결정화 유도 물질이 도핑된 Ge-Sb-Te 상변화 물질로 이루어진 박막을 상기 기판 상에 형성하는 단계와, (c) 상기 박막이 형성된 기판을 반응로 내부에서 어닐링 열처리하여, 상기 결정화 유도 물질이 Ge과 우선적으로 결합함과 아울러, 이에 따라 과잉의 Sb와 Te가 결합하여 상변화물질 Sb2Te3을 형성하여 상분리됨으로써 Sb2Te3로 이루어진 단결정 나노와이어가 상기 박막 상에서 성장하도록 하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.

The present invention relates to a method and a device for a fingerprint resistant coating having enhanced productivity using in combination plasma reform method, sputter coating method, and thermal evaporation method, instead of the conventional electron beam evaporation method, and more specifically, the present invention relates to a fingerprint resistant coating method comprising: a) a step for evaporating a SiO2 thin film using a sputter on the surface of a basic material; and b) a step for evaporating a fluorine compound using the thermal evaporation method on the surface of the basic material having the SiO2 thin film evaporated thereon.
본 발명은 기존의 전자빔증착법 대신에 플라즈마 개질법, 스퍼터코팅법 및 열증착법을 복합적으로 사용하여 생산성을 향상시킨 내지문 표면 코팅 방법 및 장치에 관한 것으로서, 상세하게는 본 발명은 a) 기재 표면에 스퍼터(sputter)를 이용하여 이산화규소(SiO2) 박막을 증착하는 단계, 및 b) 상기 이산화규소 박막이 증착된 기재 표면에 열증착(Thermal evaporation) 방식을 통해 불소화합물을 증착시키는 단계를 포함하는 내지문 코팅 방법에 대한 것이다.