본 발명은 메틸클로로실란을 직접합성법에 의해 제조하는 공정 중 생성된, 1기압 하에서 70°C 이상의 고비점을 갖는 실리콘 잔류물을 재분배하는 방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 촉매의 존재 하에서 상기 고비점 실리콘 잔류물을 활성 수소 함유 실란과 고온에서 반응시킴으로써 디메틸디클로로실란(Me2SiCl2) 및 트리메틸클로로실란(Me3SiCl)의 함량이 증가된 메틸클로로실란 혼합물을 제조하는 방법에 관한 것이다.
The present invention relates to a method for redistributing silicon residue, which has a high-boiling point of not less than 70°C under 1 atmosphere of pressure, and which is generated while methylchlorosilane is prepared by direct synthesis, and more particularly, to a method of preparing methylchlorosilane in which the amounts of dimethylchlorosilane (Me2SiCl2) and trimethylchlorosilane (Me3SiCl) are increased by reacting the high-boiling silicon residue with active hydrogen-containing silane in the presence of a catalyst.patents-wipo patents-wipo