아미트라즈 oor Engels

아미트라즈

Vertalings in die woordeboek Koreaans - Engels

amitraz

naamwoord

chemicals

voorbeelde

분말 플라즈마 처리 장치는, 원통형 면방전 플라즈마 모듈의 분말 플라즈마 처리 장치로서, 상기 원통형 면방전 플라즈마 모듈의 외면은 기판형 전극층이고, 상기 기판형 전극층의 내면 측으로 절연층이 있고, 상기 절연층 위에 플라즈마 발생 전극이 위치하며, 상기 원통형 면방전 플라즈마 모듈은 회전하고, 상기 플라즈마 발생 전극과 상기 기판형 전극층에 교류 전압이 인가되어, 상기 플라즈마 발생 전극 주위에 플라즈마가 발생되고, 플라즈마 처리를 위한 분말은 상기 원통형 면방전 플라즈마 모듈 내에서 상기 플라즈마에 의해 처리된다.
The powder plasma treatment apparatus is a powder plasma treatment apparatus for a cylindrical surface discharge plasma module, wherein the outer surface of the cylindrical surface discharge plasma module is a substrate-type electrode layer, an insulating layer is present on the inner surface side of the substrate-type electrode layer, a plasma generation electrode is positioned on the insulating layer and the cylindrical surface discharge plasma module rotates, plasma is generated in the vicinity of the plasma generation electrode when an AC voltage is applied to the plasma generation electrode and the substrate-type electrode layer, and powder for a plasma treatment is treated by the plasma in the cylindrical surface discharge plasma module.

캐나다의 연구자 사이몬 라즈네스는 대부분의 소년들이 10세 이전에
Canadian researcher Simon Lajeunesse found that most boys seek pornography by age 10.

본 발명의 나노 플라즈모닉 센서는, 분석 대상물이 수용되는 리세스된 수용부를 가지는 금속 나노구조물 및 금속 나노구조물에서의 플라즈몬 공명 현상을 측정하는 측정부를 포함한다. 또한, 본 발명의 나노 플라즈모닉 센서를 이용한 측정 방법은, 분석 대상물이 수용되는 리세스된 수용부를 포함하는 금속 나노구조물을 마련하는 단계, 수용부 내에 분석 대상물을 위치시키는 단계, 및 금속 나노구조물에서의 플라즈몬 공명 현상을 측정하는 단계를 포함한다.
A nanoplasmonic sensor of the present invention comprises a metal nanostructure having a recessed housing part in which a subject being analyzed is housed, and a measurement part for measuring plasmon resonance in the metal nanostructure.

입자가 이 기간동안 매우 빠르게 움직이지는 않지만 거시적으로 전하의 “거품”이 빛의 속도에 가깝게 플라즈마를 통해 이동하는 것으로 나타납니다.
Although the particles are not moving very quickly during this period, macroscopically it appears that a "bubble" of charge is moving through the plasma at close to the speed of light.

즉시 두 대의 자동차에 보급품을 가득 싣고 몇 형제들이 ‘우아라즈’로 향했는데 그곳에는 20명의 전도인들과 두 명의 특별 ‘파이오니아’들로 된 한 회중이 있었다.
Immediately, two vehicles were packed with supplies, and some brothers headed for Huaraz, where there was a congregation of 20 publishers and two special pioneers.

나노 분말 제조용 플라즈마 토치 전극 구조
Structure of a plasma torch electrode for manufacturing nanopowder

1970년 7월 1일경, 우리는 ‘우아라즈’를 지나 산맥을 통과하여 ‘카라즈’로 갈 수 있게 허가해 달라고 신청하였다.
Around July 1, 1970, we applied for a permit to travel into the mountains through Huaraz and on to Caraz.

상기 세라믹 코팅체는 플라즈마 처리장치에 적용되는 피 코팅체 및 상기 피 코팅체 표면에 형성되며 800W 파워에서 형성된 플라즈마에 대하여 13 내지 25nm/min의 부식속도를 갖고, 기공의 함유율이 0.1 내지 1%인 세라믹 코팅막을 포함하는 구성을 갖는다.
In addition, the ceramic coating has 13-25 nm/min of a corrosion rate for the plasma formed at 800W power and includes a ceramic coating film with 0.1-1% porosity.

본 발명은, 공정설비에서 발생되는 배기가스 처리 플라즈마 반응기에 관한 것으로서, 공정 챔버에서 배출되는 배기가스를 분해하도록 공정챔버와 진공펌프 사이에 배치되는 플라즈마 반응기에 있어서, 상기 배기가스가 유동하며, 유전체로 형성된 도관; 상기 도관 상에 설치되어, 상기 도관의 내부 공간과 차폐되는 제1 전극부; 및 상기 제1 전극부와 이격되어 배치되며, 상기 제1 전극부와 플라즈마 방전을 일으켜서 상기 배기가스를 분해하는 제2 전극부를 포함하고, 상기 플라즈마 방전에 의한 상기 도관의 손상을 방지하기 위하여, 상기 도관의 두께는 상기 플라즈마 방전이 집중되는 부분의 두께가 주변 부분의 두께보다 두껍게 형성된다.
The present invention relates to a plasma reactor for treating exhaust gas generated form a processing facility, and more specifically, to a plasma reactor arranged between a process chamber and a vacuum pump so as to dissolve exhaust gas discharged from the process chamber, comprising: a tube made from a dielectric through which the exhaust gas flows; a first electrode portion which is installed on the tube and is shielded from the inner space of the tube; and a second electrode portion, which is arranged apart from the first electrode portion, for dissolving the exhaust gas by causing plasma electric discharge, wherein the thickness of the tube is formed so that an area where the plasma discharge is concentrated is thicker than the thickness of surrounding areas, so as to prevent damage to the tube due to the plasma electric discharge.

의료용 플라즈마 멸균장치
Apparatus for medical sterilization using plasma

혼합 플라즈마 발생장치 및 방법, 그리고 혼합 플라즈마를 이용한 전열 조리장치
Hybrid plasma generating device and method, and electrically heated cooking devices using hybrid plasma

석탄가스화복합발전용 플라즈마 가스화기
Plasma gasifier for integrated gasification combined cycle

상기 세정 시스템은 챔버, 플라즈마를 공급하는 플라즈마 소스원, 특정 세정 가스를 공급하는 가스 소스원, 및 상기 플라즈마 소스원과 상기 챔버 사이에 연결되며, 상기 플라즈마 소스원으로부터 공급된 플라즈마와 상기 가스 소스원으로부터 공급된 세정 가스를 혼합하고, 상기 혼합된 가스를 상기 챔버로 공급하는 분사기를 포함한다.
The present invention concerns a cleaning system which mixes plasma and cleaning gas then supplies it to a chamber.

이 이온들이 대기에 도달하면 작은 공기 덩어리를 이온화 시키는데 이것이 플라즈마를 만들어 빛이 방출된다.
Once they reach the atmosphere these ions can ionise pockets of air, forming plasma that emits light.

하지만, 플라즈마의 평형상태를 살짝 흐트러뜨리면 전기장이 자연적으로 사라지거나 점차 줄어드는 결과를 얻게 되죠. 마치 어떤 알 수 없는 마찰력이 작용하는 것처럼요.
But still, if you slightly perturb a plasma equilibrium, you will find that the resulting electric field spontaneously vanishes, or damps out, as if by some mysterious friction force.

본 발명은 혈액으로부터 신속하고 용이하게 혈구의 분리가 가능하고, 조작이 편리하며, 추출된 플라즈마를 바로 사용할 수 있는 샘플러에 관한 것이다. 본 발명의 실시예에 따른 샘플러는 챔버 및 멤브레인 가이드를 포함하여 이루어진다.
The present invention relates to a sampler which is capable of rapidly and easily separating blood corpuscles from blood, being operated conveniently, and directly using extracted plasma.

라즈비안은 픽셀(PIXEL, Pi Improved Xwindows Environment, Lightweight)을 최신 업데이트의 자체 주 데스크톱 환경으로 사용한다.
Raspbian uses PIXEL, Pi Improved X-Window Environment, Lightweight as its main desktop environment as of the latest update.

라즈라니는 「파수대」에서 읽게 된 내용으로부터 매우 깊은 영향을 받기 시작하여, 부모의 반대가 있었지만 여호와 하느님께 헌신할 정도까지 발전하였습니다.
What Rajrani read in The Watchtower began to influence her so deeply that despite her parents’ opposition, she progressed to the point of dedicating her life to Jehovah God.

본 발명에 의하면, 기존의 광열화 시험방법에서 널리 사용하는 크세논-아크 광원과 같이 자외선 영역에서는 태양광과 유사하고, 장파장의 가시광선과 적외선 영역에서는 메탈링 광원과 같이 조사강도가 낮은 광파워 스펙트럼을 갖는 발광 플라즈마 광원을 사용함으로써 태양광에 대한 광열화 재현성을 확보하는 동시에 시편 과열 없이 고강도의 자외선 조사가 가능하도록 할 수 있다.
According to the present invention, a light-emitting plasma light source is used which is similar to solar light in an ultraviolet region, like a xenon-arc light source widely used in existing photo-degradation testing methods, and which has an optical power spectrum with a low irradiation intensity in a visible light region and an infrared region with a long wavelength, like a metal ring light source, thus ensuring reproducibility of photo-degradation for solar light and enabling high intensity ultraviolet ray irradiation without causing a sample to overheat.

본 발명의 폴 타입 안테나가 포함된 이온빔 소스의 위치제어를 이용한 이온 처리 장치는 폴 타입 안테나가 내장된 플라즈마 챔버에 반응가스를 주입하여 플라즈마를 생성하고, 생성된 상기 플라즈마를 통해 이온빔을 추출 및 가속하는 이온빔 소스와 상기 이온빔 소스에서 방출되는 상기 이온빔을 충돌하기 위한 이온빔 타겟과 상기 이온빔 타겟에서 충돌되어 생성되는 스퍼터 원자가 증착되기 위한 가공물과 상기 가공물을 진공 챔버 내에 고정하고, 지지하기 위한 가공물 고정부 및 상기 이온빔 소스에서 생성되는 상기 이온빔의 방출각을 상기 이온빔 타겟으로 향하도록 하는 것을 제어하기 위해 상기 이온빔 소스의 일측에 구비되는 이온빔 소스 구동부를 포함함에 기술적 의의가 있다.
The present invention relates to an ion treatment apparatus using the control of the position of an ion beam source including a pole-type antenna.

이산화탄소를 활성화시켜 탄소와 산소로 분리시키기 위해서는 1800°C 이상의 온도를 유지시켜야 하며, 완전하게 탄소와 산소를 분리하기 위해서는 2000°C이상의 초고온에 도달하여야 하나 종래 플라즈마 아크를 이용한 이산화탄소 분해방법에서는 이를 유지하기 어렵다.
However, it is difficult to maintain said temperature in a conventional decomposition method of carbon dioxide using plasma arc.

이런 역설적 효과를 란다우 감쇠효과라고 합니다. 이건 플라즈마 물리학에서 매우 중요한 현상 중 하나로서 수학적 아이디어로 알아냈습니다.
This paradoxical effect, called the Landau damping, is one of the most important in plasma physics, and it was discovered through mathematical ideas.

본 발명은 반도체 산업을 포함한 각종 산업으로부터 배출되는 대기오염 유해가스를 제거하기 위한 플라즈마 반응기와 이를 이용한 스크러버에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 유해가스가 배출되는 배출구와 통상의 습식 스크러버 사이에 설치되는 글라이딩 플라즈마 반응기와 초고주파 플라즈마 반웅기, 상기 플라즈마 반응기들로부터 발생된 플라즈마 화염으로 상기 유해가스를 통과시켜 유해가스를 제거하는 플라즈마 가스 스크러버를 제공하게 된다.
The present invention relates to a plasma reactor for removing air pollutant, noxious gas discharged from a variety of industries including the semiconductor industry, and to a scrubber using the same.

제 이름은 아미트입니다.
My name is Amit.

유도결합형 플라즈마 발생소스 전극 및 이를 포함하는 기판처리 장치
Inductively coupled plasma-generating source electrode and substrate-processing apparatus comprising same