Metadata
Author: patents-wipo
Data
English[en]
The objective of the present invention is to improve the deposition rate when forming an SiO2 thin film on a glass substrate by an online atmospheric pressure CVD method with respect to a plate glass in an annealing process which has come out from a float bath.
French[fr]
La présente invention vise à améliorer la vitesse de dépôt lors de la formation d'une couche mince de SiO2 sur un substrat de verre par un procédé de dépôt chimique en phase vapeur sous pression atmosphérique en continu par rapport à une glace dans un procédé de recuisson en sortie d'un bain de flottage.
Japanese[ja]
フロートバスから出てきた徐冷過程の板ガラスに対して、オンライン常圧CVD法を用いてガラス基板上にSiO2薄膜を形成する際の成膜速度の改善。