Metadata
Author: patents-wipo
Data
English[en]
The present invention relates to a double boat structure of a wafer processing apparatus in which a first boat is stored in the inside of a second boat, the first and second boats are moved relative to each other in the vertical direction, a first chuck groove is formed at a pillar of the first boat to primarily support a wafer, and a second chuck plate is formed at a pillar of the second boat to secondarily support the wafer so that the vibration and shock transmitted to the wafer are minimized and the wafer processing yield is increased.
French[fr]
La présente invention concerne une structure de porte-échantillon double d'un appareil de traitement de tranche dans laquelle un premier porte-échantillon est stocké à l'intérieur d'un second porte-échantillon, les premier et second porte-échantillons sont déplacés dans la direction verticale l'un par rapport à l'autre, une première rainure de mandrin est formée au niveau d'un pilier du premier porte-échantillon pour supporter en premier lieu une tranche et une seconde rainure de mandrin est formée au niveau d'un pilier du second porte-échantillon pour supporter en deuxième lieu la tranche afin que la vibration et le choc transmis à la tranche soient réduits et que le rendement du traitement de tranche soit augmenté.
Korean[ko]
본 발명은 웨이퍼 처리 장치의 이중 보트 구조에 관한 것으로, 제 1보트가 제 2보트의 내부에 수용되고, 상기 제 1,2보트는 상호 상하 방향으로 상대 거동되며, 상기 제 1보트의 기둥에 제 1척홈이 형성되어 1차로 웨이퍼를 지지하고, 상기 제 2보트의 기둥에 제 2척플레이트가 설치되어 상기 웨이퍼를 2차로 받아 지지함으로써 상기 웨이퍼에 전달되는 진동 및 충격이 최소화되어 웨이퍼 처리 수율이 증가된다.