Metadata
Author: patents-wipo
Data
English[en]
Self-aligned via and plug patterning using diagonal hardmasks for improved overlay in fabricating back end of line (BEOL) interconnects is described.
French[fr]
L'invention concerne une formation de motifs de trous d'interconnexion et de fiches auto-alignés à l'aide de masques durs diagonaux pour permettre un meilleur revêtement lors de la fabrication d'interconnexions d'extrémité arrière de ligne (BEOL pour Back End Of Line).