Metadata
Author: EurLex-2
Data
Danish[da]
Formål: F & U (optisk litografi, anvendelse af 157nm-teknologi)
German[de]
Zielsetzung: FuE (optische Lithographie, Anwendung der 157 nm-Technologie)
Greek[el]
Στόχος: Έρευνα και Ανάπτυξη (οπτική λιθογραφία, εφαρμογή τεχνολογίας 157 nm)
English[en]
Objective: R & D (optical lithography, application of 157 nm technology)
Spanish[es]
Objetivo: I+D (litografía óptica, aplicación de la tecnología de 157 nm)
Finnish[fi]
Tarkoitus: Tutkimus ja kehitys (optinen kivipaino, 157 nm:n teknologian soveltaminen)
French[fr]
Objectif: R & D (lithographie optique, application de la technologie 157 nm)
Italian[it]
Obiettivo: Ricerca e Sviluppo (litografia ottica, applicazione della tecnologia 157nm)
Dutch[nl]
Doelstelling: O & O (optische lithografie, toepassing van de 157nm-technologie)
Portuguese[pt]
Objectivo: I & D (litografia óptica, aplicação de tecnologia 157 nm) (I & D)
Swedish[sv]
Syfte: FoU (optisk litografi, tillämpning av teknik för 157 nm litografi)