Metadata
Author: ParaCrawl Corpus
Data
English[en]
The most common nanolithographic technique is Electron-Beam Direct-Write Lithography (EBDW), the use of a beam of electrons to produce a pattern — typically in a polymeric resist such as PMMA.
Spanish[es]
La más corriente de las técnicas nanolitográficas es la litografía de escritura directa por haces de electrones (Electrón Beam Direct Write lithography o EBDW). En esta técnica, el uso de un haz de electrones imprime un patrón, usualmente sobre una resina de polímero que se opone tal como PMMA.