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Author: patents-wipo
Data
English[en]
The present invention relates to a texture-etchant composition for a crystalline silicon wafer to form a micro-pyramidal structure that can maximize the light absorption on the surface of the crystalline silicon, and a method for etching the crystalline silicon wafer using same, in a crystalline silicon wafer texture-etching composition comprising (A) an alkali compound, (B) a cyclic compound having a boiling point of 100°C or above,(C) a fluorinated surfactant, and (D) water, and a method for etching a crystalline silicon wafer using same.
French[fr]
L'invention concerne une composition d'agent de gravure pour texturation destinée à une plaquette de silicium cristallin pour former une structure micro-pyramidale qui peut augmenter au maximum l'absorption de lumière à la surface du silicium cristallin, ladite composition comprenant (A) un composé alcalin, (B) un composé cyclique présentant un point d'ébullition égal ou supérieur à 100°C, (C) un tensioactif fluoré et (D) de l'eau.
Korean[ko]
본 발명은 (A)알칼리 화합물, (B)비점이 100°C 이상인 고리형 화합물, (C)불소계 계면활성제, 및 (D)물을 포함하는 결정성 실리콘 웨이퍼의 텍스쳐 에칭액 조성물 및 이를 이용하는 결정성 실리콘 웨이퍼의 에칭 방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 결정성 실리콘 표면의 빛 흡수를 극대화할 수 있는 미세 피라미드 구조 형성을 위한 결정성 실리콘 웨이퍼의 텍스쳐 에칭액 조성물 및 이를 이용하는 결정성 실리콘 웨이퍼의 에칭 방법에 관한 것이다.