Metadata
Author: patents-wipo
Data
English[en]
The purpose of the present invention is to provide a radiation-sensitive composition capable of forming a chemically amplified positive resist film which effectively responds to (extreme) far UV light such as a KrF excimer laser, an ArF excimer laser, or EUV, an X-ray such as synchrotron radiation, or an electron beam, has excellent nano-edge roughness, sensitivity, and resolution, and is capable of stably and highly accurately forming a micropattern.
French[fr]
La présente invention a pour but de proposer une composition sensible au rayonnement, capable de former un film de résist positif amplifié chimiquement qui répond efficacement aux ultraviolets lointains (extrêmes) tels qu'un laser excimère KrF, un laser excimère ArF, ou les UV extrêmes, à un rayonnement X tel qu'un rayonnement synchrotron, ou à un faisceau électroniqque, qui a une excellente nano-rugosité de bord, une excellente sensibilité et une excellente résolution, et qui est capable de former un micromotif de façon stable et hautement précise.
Japanese[ja]
本発明の目的は、KrFエキシマレーザー、ArFエキシマレーザー、EUV等の(極)遠紫外線、シンクロトロン放射線等のX線、電子線に有効に感応し、ナノエッジラフネス、感度及び解像度に優れ、微細パターンを高精度に且つ安定して形成可能な化学増幅型ポジ型レジスト膜を成膜することができる感放射線性組成物等を提供することである。 本発明の感放射線性組成物は、下記一般式(1)で示される酸発生剤と、溶剤と、を含有する。〔 式中、R0は相互に独立に、水素原子、フッ素原子、又は置換若しくは非置換の1価の有機基を示す。 R1は、フッ素原子、又は置換若しくは非置換の1価の有機基を示し、Rf若しくはR2と相互に結合し、環状構造を形成していてもよい。 R2は、フッ素原子、又は置換若しくは非置換の1価の有機基を示す。