Metadata
Author: WikiMatrix
Data
English[en]
Other metal gates have made a comeback with the advent of high-κ dielectric materials in the CMOS process, as announced by IBM and Intel for the 45 nanometer node and smaller sizes.
Persian[fa]
دیگر دروازههای فلزی بازگشتی دی الکتریک در فرایند CMOS ساخته شدهاند، که توسط آی بی ام و اینتل برای گره نانومتر ۴۵ و فراتر از آن اعلام شده است.