Metadata
Author: patents-wipo
Data
English[en]
Thus, the fast throughput can be secured by depositing an atomic layer by using the space division type source gas unit and plasma unit.
French[fr]
Le débit rapide peut ainsi être assuré en déposant une couche atomique en se servant de l'unité de plasma et de l'unité de gaz source du type à division d'espace.
Korean[ko]
본 발명에 따른 고속 원거리 플라즈마 원자층 증착장치는, 기판에 대해 가스를 공급하는 소스가스유닛; 상기 기판에 대해 플라즈마를 발생시키는 플라즈마유닛; 및 상기 소스가스유닛과 상기 플라즈마유닛 사이에 제공되어, 상기 소스가스를 흡입하는 가스흡입부;를 포함하며, 상기 기판은 상기 소스가스유닛, 상기 플라즈마유닛 또는 상기 가스흡입부 중 적어도 하나의 길이 방향과 교차하는 방향으로 상대 운동하도록 제공될 수 있다.