Metadata
Author: patents-wipo
Data
English[en]
A plasma etcher (100) for semiconductor wafers (W) generates plasma in a space between a susceptor (3) and a showerhead (4).
French[fr]
L'invention concerne un appareil (100) de gravure par plasma pour tranches (W) de semi-conducteurs, qui produit du plasma dans un espace situé entre un élément (3) sensible et une tête (4) de douche.