Metadata
Author: patents-wipo
Data
English[en]
The etchant composition according to the present invention can be effectively used in the production of electrodes for TFT-LCD displays because the composition can maintain etching characteristics such as taper angle, CD loss, and etching linearity even when the amount of metal ions in the etchant becomes high due to the repetition of the etching process.
French[fr]
La composition d'agent d'attaque selon la présente invention peut être utilisée de manière efficace dans la fabrication d'électrodes pour des affichages TFT-LCD parce que la composition peut conserver des caractéristiques d'attaque telles qu'un angle de conicité, une perte en CD, et une linéarité d'attaque même lorsque la quantité d'ions métalliques dans la composition d'agent d'attaque devient élevée en raison de la répétition du procédé d'attaque.
Korean[ko]
본 발명에 따른 식각액 조성물은 식각 공정을 반복하여 식각액 내의 금속 이온 함량이 높은 경우에도 테이퍼 앵글, 시디 로스 및 식각 직진성 등의 식각 특성이 유지될 수 있으므로 TFT-LCD 디스플레이 전극 제조 등에 유용하게 사용될 수 있다.