Metadata
Author: patents-wipo
Data
English[en]
The present invention pertains to a process which includes forming high-refractive-index films and low -refractive-index films alternately on a substrate in a vacuum chamber by an ion-assisted deposition method and then forming a fluoride film as the top layer.
French[fr]
La présente invention se rapporte à un procédé qui consiste à former alternativement des films à indice de réfraction élevé et des films à faible indice de réfraction sur un substrat dans une chambre à vide au moyen d'un procédé de dépôt assisté par faisceau d'ions et, ensuite, à former un film de fluorure comme couche supérieure.
Japanese[ja]
2倍の第二のイオン加速電流で酸素イオンを照射しながら、低屈折率物質を蒸着する低屈折率膜成膜工程,及び、基板に、第一のイオン加速電圧,イオン加速電流の0. 8~1. 2倍の第三のイオン加速電圧,イオン加速電流で酸素イオンを照射しながら、フッ化物を蒸着するフッ化物膜成膜工程のうち一方の工程を交互に行って多層膜の下地層を成膜後、フッ化物膜成膜工程を行う。