Metadata
Author: patents-wipo
Data
English[en]
The negative resist composition is characterized by containing an alkali-soluble resin (A), a compound (B) including a low-molecular-weight compound having an oxethane structure having a molecular weight of not more than 2000, and a cationic photopolymerization initiator (C).
French[fr]
La composition de photorésine négative est caractérisée en ce qu'elle contient une résine soluble dans les alcalis (A), un composé (B) comprenant un composé de faible poids moléculaire, présentant une structure d'oxéthane ayant un poids moléculaire inférieur à 2 000 et un initiateur de photopolymérisation cationique (C).
Japanese[ja]
本発明の目的は、遠紫外線光、特に波長が193nmのArFエキシマレーザを用いるミクロフォトファブリケーションの性能向上技術の課題を解決することであり、より具体的には、微細なパターン形成においてもパターン倒れが発生し難く、良好な解像性を示すネガ型レジスト組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法として、(A)アルカリ可溶性樹脂、(B)分子量2000以下のオキセタン構造を有する低分子化合物を有する化合物、(C)光カチオン重合開始剤、を含有することを特徴とする、ネガ型レジスト組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法を提供する。