Metadata
Author: patents-wipo
Data
English[en]
The present invention relates to a method for forming micro- or nanoscale patterns using various liquid crystal phase or defect structures, and to microlens arrays produced using the method, and more particularly, to a method for forming patterns and to a microlens array which may be used to form a regular structure for a self-assemblable liquid crystal phase or defect, and which may be used as a mask for optical or soft lithography by using the surface structure or the refractive index change from liquid crystal orientation.
French[fr]
La présente invention concerne un procédé de formation de motifs à l'échelle micro- or nanoscopique utilisant diverses structures de phases ou de défauts de cristaux liquides, ainsi que des réseaux de microlentilles produits à l'aide dudit procédé, et concerne plus particulièrement, un procédé de formation de motifs et un réseau de microlentilles susceptibles d'être utilisés pour former une structure régulière pour une phase ou un défaut auto-assemblable de cristal liquide, et susceptibles d'être utilisés comme masque pour la lithographie optique ou molle en utilisant la structure de surface ou la variation d'indice de réfraction résultant de l'orientation du cristal liquide.
Korean[ko]
본 발명은 액정(liquid crystal)의 다양한 상(phase) 또는 결함(defect) 구조를 이용하여 마이크로 또는 나노 크기 패턴을 형성하는 방법 및 이러한 방법으로 제조된 마이크로렌즈 어레이(microlens arrays)에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 자기조립 가능 액정의 상 또는 결함을 규칙적인 구조로 형성시키고, 액정 배향에 따른 굴절률 변화 또는 표면 구조를 이용하여 광학 또는 연성 리소그래피를 위한 마스크로 활용할 수 있는 패턴 형성 방법 및 마이크로렌즈 어레이에 관한 것이다.