Metadata
Author: patents-wipo
Data
English[en]
The device fundamentally eliminates an area of coexistence of the raw material precursor and the reaction precursor, thereby making unnecessary any additional process for removing films so as to prevent films from being deposited outside the substrate, extending the maintenance cycle, and improving thin film quality and productivity through particle generation suppression.
French[fr]
Le dispositif élimine essentiellement une région de coexistence du précurseur de matière première et du précurseur de réaction, ce qui rend inutile un processus supplémentaire pour éliminer des films déposés à l'extérieur du substrat, prolonge le cycle d'entretien et améliore la qualité et la productivité de couche mince au moyen d'une suppression de génération de particules.
Korean[ko]
본 발명에서는 원자층 증착에 있어서, 상부 및 하부의 분리 및 결합이 가능한 원자층 증착 공정을 위한 단위 공정챔버를 적층형태로 다수개 배치하며, 각 단위 공정챔버별로 원료전구체가 흡착된 기판위를 이동하면서 반응전구체를 원료전구체와 반응시키는 스캔형 반응기를 구비하여 원료전구체와 반응전구체의 공존영역을 원천적으로 배제함으로써, 기판외 성막방지에 따른 추가적인 성막 제거공정 불필요, 메인터넌스 주기연장, 파티클 발생억제를 통한 박막품질 및 생산성을 향상시킬 수 있다.