Metadata
Author: patents-wipo
Data
English[en]
The present invention relates to an underlayer composition having anti-reflective properties useful in a lithographic process.
French[fr]
La présente invention concerne une composition de sous-couche présentant des propriétés antireflet qui sont utiles en traitement lithographique.
Korean[ko]
본 발명은 리쏘그래픽 공정에 유용한 반사방지성을 갖는 하층막 조성물에 관한 것으로, 본 발명에 따른 조성물은 매우 우수한 광학적 특성, 기계적 특성 및 에칭 선택비 특성을 제공하며, 동시에 스핀-온 도포 기법을 이용하여 도포 가능한 특성을 제공한다.