Metadata
Author: patents-wipo
Data
English[en]
The present invention provides an apparatus and a method for manufacturing a polycrystalline silicon thin film.
French[fr]
La présente invention concerne un appareil et un procédé de fabrication d'un film mince en silicium polycristallin.
Korean[ko]
상기 다결정 실리콘 박막 제조장치는 챔버, 상기 챔버의 일측에 설치되고 비정질 실리콘 박막과 도전성 박막을 구비한 기판이 안착되는 기판 스테이지 및, 상기 기판 스테이지에 대향되도록 상기 챔버의 타측에 설치되고 상기 기판 스테이지에 안착된 기판 측으로 이동되어 상기 기판에 구비된 도전성 박막에 전원을 인가하도록 된 전원인가용 전극을 포함한다.