Metadata
Author: patents-wipo
Data
English[en]
Disclosed are an apparatus and a method for wet-processing (such as cleaning and etching) an object such as a semiconductor wafer or substrate, and a fluid diffusion plate and a barrel used therein.
French[fr]
L'invention concerne un appareil et un procédé pour traiter par voie humide (par exemple nettoyer et graver) un objet tel qu'une plaquette ou un substrat de semi-conducteur, ainsi qu'une plaque de diffusion de fluide et un tonneau utilisés à cet effet.
Korean[ko]
반도체 웨이퍼나 기판과 같은 처리 대상물을 세정, 식각 등 습식 처리하는 습식 처리 장치 및 방법과, 이에 사용되는 유체 확산판 및 배럴을 개시한다.