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Author: WikiMatrix
Data
English[en]
Wet etching typically uses alkaline liquid solvents, such as potassium hydroxide (KOH) or tetramethylammonium hydroxide (TMAH) to dissolve silicon which has been left exposed by the photolithography masking step.
Spanish[es]
El grabado mojado generalmente utiliza solventes líquidos alcalinos, como hidróxido de potasio (KOH) o hidróxido de tetrametilamonio (TMAH) para disolver el silicio que ha quedado expuesto por el paso de enmascaramiento fotolitográfico.