Besonderhede van voorbeeld: -8372281376098339768

Metadata

Author: EurLex-2

Data

Bulgarian[bg]
Съпротивителни материали, проектирани за полупроводникова литография, специално приспособени (оптимизирани) за използване при дължини на вълната под 245 nm;
Czech[cs]
pozitivní rezisty konstruované pro polovodičovou litografii speciálně upravené (optimalizované) pro použití při vlnových délkách pod 245 nm,
Danish[da]
Positive resists til halvlederlitografi, som er specielt justeret (optimeret) til brug under 245 nm;
German[de]
Positiv-Fotoresists, entwickelt für die Halbleiter-Lithografie, besonders eingestellt (optimiert) für den Einsatz bei Wellenlängen kleiner als 245 nm;
Greek[el]
Θετικά φωτοανθεκτικά υλικά για λιθογραφικές εργασίες με ημιαγωγούς, ειδικώς ρυθμισμένα (αριστοποιημένα) για χρήση σε μήκη κύματος κάτω από 245 nm,
English[en]
Positive resists designed for semiconductor lithography specially adjusted (optimised) for use at wavelengths below 245 nm;
Spanish[es]
Materiales de protección (<resists>) positivos para litografía en semiconductores ajustados especialmente (optimizados) para su utilización a longitudes de onda inferiores a 245 nm;
Estonian[et]
positiivsed resistid, mis on ette nähtud pooljuhtide litograafiaks ning spetsiaalselt kohandatud (optimeeritud) kasutamiseks lainepikkustel alla 245 nm;
Finnish[fi]
Positiiviestopinnoitteet, joiden spektrivaste on erityisesti sovitettu (optimoitu) alle 245 nm:n aallonpituuksille;
French[fr]
résines photosensibles (résists) positives pour lithographie des semi-conducteurs spécialement adaptées (optimisées) pour l'emploi à des longueurs d'onde inférieures à 245 nm;
Croatian[hr]
Pozitivni zaštitni premazi namijenjeni za poluvodičku litografiju posebno podešenu (optimiziranu) za korištenje pri valnim dužinama ispod 245 nm;
Hungarian[hu]
Pozitív védőréteg anyagok, amelyeket kifejezetten 245 nm alatti hullámhosszúságú félvezető litográfiához igazítottak (optimalizáltak);
Italian[it]
resine fotosensibili (resist) positive progettate per litografia di semiconduttori appositamente adattate (ottimizzate) per l'impiego con lunghezze d'onda inferiori a 245 nm;
Lithuanian[lt]
pozityviniai rezistai, skirti puslaidininkinių įtaisų litografijai, specialiai pritaikyti (optimizuoti) naudoti esant bangų ilgiams, mažesniems kaip 245 nm;
Latvian[lv]
pozitīvi aizsargpārklājumi pusvadītāju litogrāfijai, speciāli pielāgoti (optimizēti) lietošanai viļņu garumos, kas mazāki par 245 nm;
Maltese[mt]
Materjali fotosensibbli pożittivi ddisinjati għal-litografija ta' semikondutturi aġġustati apposta (ottimizzati) għall-użu f'tul tal-mewġ ta' anqas minn 245 nm;
Dutch[nl]
positieve ‹resists› ontworpen voor halfgeleiderlithografie, die optimaal geschikt zijn gemaakt voor gebruik bij golflengten van minder dan 245 nm;
Polish[pl]
Materiały fotorezystywne pozytywowe zaprojektowane do litografii półprzewodnikowej, specjalnie wyregulowanej (zoptymalizowanej) do stosowania w zakresie długości fali poniżej 245 nm;
Portuguese[pt]
Resinas fotossensíveis positivas concebidas para litografia de semicondutores especialmente ajustadas para utilização em comprimentos de onda inferiores a 245 nm;
Romanian[ro]
Rășini fotosensibile pozitive pentru litografierea semiconductorilor special ajustați (optimizați) pentru a fi folosiți la lungimi de undă sub 245 nm;
Slovak[sk]
pozitívne odolné materiály navrhnuté pre polovodičovú litografiu osobitne upravené (optimalizované) na používanie pri vlnových dĺžkach menej ako 245 nm;
Slovenian[sl]
pozitivne uporovne paste za polprevodniško litografijo, posebej prirejene (optimizirane) za uporabo pri valovnih dolžinah pod 245 nm;
Swedish[sv]
Positiva resistmaterial som är utformade för halvledarlitografi och speciellt justerade (optimerade) för våglängder under 245 nm.

History

Your action: