Metadata
Author: patents-wipo
Data
English[en]
Next, the second chemical is supplied to a semiconductor substrate introduced into the processing chamber (21).
French[fr]
Par la suite, le second produit chimique est fourni à un substrat semi-conducteur introduit dans la chambre de traitement (21).
Japanese[ja]
続いて、薬液貯蔵槽(28)において、活性化された第1の薬液と純水とを混合し、第1の薬液の濃度及び温度を調整することにより、第1の薬液を希釈した第2の薬液を調整する。 続いて、処理チャンバ(21)に投入された半導体基板に第2の薬液を供給する。