Metadata
Author: patents-wipo
Data
English[en]
The present invention relates to an ion treatment apparatus using the control of the position of an ion beam source including a pole-type antenna.
French[fr]
La présente invention concerne un appareil de traitement ionique utilisant la commande de la position d'une source de faisceau ionique comprenant une antenne de type pôle.
Korean[ko]
본 발명의 폴 타입 안테나가 포함된 이온빔 소스의 위치제어를 이용한 이온 처리 장치는 폴 타입 안테나가 내장된 플라즈마 챔버에 반응가스를 주입하여 플라즈마를 생성하고, 생성된 상기 플라즈마를 통해 이온빔을 추출 및 가속하는 이온빔 소스와 상기 이온빔 소스에서 방출되는 상기 이온빔을 충돌하기 위한 이온빔 타겟과 상기 이온빔 타겟에서 충돌되어 생성되는 스퍼터 원자가 증착되기 위한 가공물과 상기 가공물을 진공 챔버 내에 고정하고, 지지하기 위한 가공물 고정부 및 상기 이온빔 소스에서 생성되는 상기 이온빔의 방출각을 상기 이온빔 타겟으로 향하도록 하는 것을 제어하기 위해 상기 이온빔 소스의 일측에 구비되는 이온빔 소스 구동부를 포함함에 기술적 의의가 있다.