Metadata
Author: patents-wipo
Data
English[en]
Provided is a cleaning apparatus for cleaning a polished semiconductor wafer.
French[fr]
La présente invention concerne un appareil de nettoyage conçu pour nettoyer une plaquette semiconductrice polie.
Korean[ko]
상기 세정 장치는 직선 트랙을 따라서 일렬로 배치되는 기판 입력부, 기판을 세정하도록 구성되는 제1 및 제2 세정 챔버를 포함하는 기판 세정부, 기판을 건조하도록 구성되는 2개 이상의 건조 챔버를 포함하는 기판 건조부를 포함한다.