Metadata
Author: patents-wipo
Data
English[en]
In the production of an aluminum etched plate (1) for an electrolytic capacitor having a high level of capacitance by subjecting an aluminum plate to alternating current etching in an etching liquid to enlarge the face, an aluminum plate having an aluminum purity of not less than 99.98% by mass, a copper content of less than 30 ppm, and an iron content of 5 to 50 ppm is subjected to alternating current etching in an etching liquid containing not less than 0.01 ppm and less than 100 ppm of an additive such as diethylenetriaminepentaacetic acid, ethylenediaminetetraacetic acid, or diethylhexyl phthalate mixed therein.
French[fr]
Dans la production selon l'invention d'une plaque gravée en aluminium (1) pour un condensateur électrolytique de niveau de capacité élevé en soumettant une plaque d'aluminium à une gravure par courant alternatif dans un liquide de gravure pour élargir la face, une plaque d'aluminium dont la pureté d'aluminium est supérieure ou égale à 99,98 % en masse, la teneur en cuivre inférieure à 30 ppm, et la teneur en fer comprise entre 5 et 50 ppm est soumise à une gravure par courant alternatif dans un liquide de gravure ne contenant pas moins de 0,01 ppm et moins de 100 ppm d'un additif tel que l'acide diéthylènetriaminepentaacétique, l'acide éthylènediaminetétraacétique, ou le phtalate de diéthylhexyle mélangés.
Japanese[ja]
アルミニウム板をエッチング液中で交流エッチングして拡面化し、静電容量の高い電解コンデンサ用アルミニウムエッチド板(1)を製造するにあたって、アルミニウム純度が99.98質量%以上で、銅を30ppm未満、鉄を5~50ppm含有するアルミニウム板に対して、ジエチレントリアミン5酢酸、エチレンジアミン4酢酸、ジエチルヘキシルフタレートなどの添加剤が0.01ppm以上かつ100ppm未満の濃度で配合されたエッチング液中で交流エッチングを行なう。