Metadata
Author: patents-wipo
Data
English[en]
The present invention avoids the mixing of a source precursor and a reactant precursor by not simultaneously injecting a source precursor and a reactant precursor, increases a throughput by simultaneously carrying out the injection of a precursor and the injection and exhaustion of a purge gas, and minimizes the reciprocation length of the shower head, thereby enabling application thereof to a large-size substrate and reducing the size of the apparatus.
French[fr]
La présente invention évite le mélange d'un précurseur de source et d'un précurseur de réaction en n'injectant pas de manière simultanée un précurseur de source et un précurseur de réaction, augmente un débit de sortie en effectuant de manière simultanée l'injection d'un précurseur et l'évacuation d'un gaz de purge, et rend minimale la longueur de va-et-vient de la pomme de douche, ce qui permet l'application de celle-ci à un substrat de grande taille et réduit la taille de l'appareil.
Korean[ko]
분사된 전구체 및 퍼지 가스는 샤워 헤드를 통하여 분사 즉시 배기 된다.