Metadata
Author: patents-wipo
Data
English[en]
[Problem] To provide a method for cleaning a metal gate semiconductor, wherein a resist adhered on a semiconductor can be effectively peeled, while suppressing etching of a metal gate.
French[fr]
Cette invention se rapporte à un procédé destiné à nettoyer un semi-conducteur à grille métallique, une résistance qui adhère sur un semi-conducteur pouvant être pelée de manière efficace, tout en supprimant la gravure d'une grille métallique.
Japanese[ja]
【課題】メタルゲートのエッチングを抑制しつつ、半導体に付着したレジストを効果的に剥離することができるメタルゲート半導体の洗浄方法を提供する。