Metadata
Author: patents-wipo
Data
English[en]
The present invention concerns a cleaning system which mixes plasma and cleaning gas then supplies it to a chamber.
French[fr]
Système de nettoyage fournissant du plasma et un gaz de nettoyage à une chambre après les avoir mélangés.
Korean[ko]
상기 세정 시스템은 챔버, 플라즈마를 공급하는 플라즈마 소스원, 특정 세정 가스를 공급하는 가스 소스원, 및 상기 플라즈마 소스원과 상기 챔버 사이에 연결되며, 상기 플라즈마 소스원으로부터 공급된 플라즈마와 상기 가스 소스원으로부터 공급된 세정 가스를 혼합하고, 상기 혼합된 가스를 상기 챔버로 공급하는 분사기를 포함한다.