Metadata
Author: patents-wipo
Data
English[en]
According to the present invention, a batch-type substrate-processing apparatus (1), which can process a plurality of substrates at the same time, comprises: a chamber (20) for providing a substrate processing space for a plurality of substrates (10); a boat (30) on which the plurality of substrates (10) are loaded and supported; a plurality of heaters (70) arranged at predetermined intervals along the substrate lamination direction; and a gas pipe base (300) arranged in the chamber (20), wherein said gas supply pipe (100) and said gas exhaust pipe (200) are connected to said gas pipe base (300).
French[fr]
Selon l'invention, un appareil de traitement de substrat de type discontinu (1), qui peut traiter simultanément une pluralité de substrats, comprend : une chambre (20) destinée à offrir un espace de traitement de substrat à une pluralité de substrats (10); un élément formant nacelle (30) sur laquelle la pluralité de substrats (10) sont chargés et pris en charge ; une pluralité d'éléments de chauffage (70) agencés selon des intervalles prédéterminés le long de la direction de stratification du substrat ; et une base de tuyaux de gaz (300) disposée dans la chambre (20), le tuyau d'alimentation en gaz (100) et le tuyau d'évacuation de gaz (200) étant reliés à la base de tuyaux de gaz (300).
Korean[ko]
본 발명에 따른 복수개의 기판을 동시에 기판처리할 수 있는 배치식 기판처리 장치(1)는, 복수개의 기판(10)에 대하여 기판처리 공간을 제공하는 챔버(20); 복수개의 기판(10)이 로딩되어 지지되는 보트(30); 기판(10)의 적층 방향을 따라 일정 간격을 가지면서 배치되는 복수개의 히터(70); 및 챔버(20)의 내부 일측에 설치되는 가스관 베이스(300) - 가스관 베이스(300)에는 가스 공급관(100) 및 가스 배기관(200)이 연결됨 -; 를 포함하는 것을 특징으로 한다.