Metadata
Author: patents-wipo
Data
English[en]
When forming a circuit pattern by means of self-assembling of the block copolymer, the marks can be formed in parallel to one another.
French[fr]
Des marques peuvent être formées en juxtaposition lors d'une formation de motif de circuit par auto-organisation du copolymère séquencé.
Japanese[ja]
ブロック共重合体の自己組織化を用いて回路パターンを形成する際に、並列にマークを形成できる。