Metadata
Author: UN-2
Data
Arabic[ar]
معدات ومواد للحفر بالبلازما، وترسيب الأبخرة الكيميائية، والطباعة الكيميائية، والطباعة الكيميائية بالستائر والستائر، ومقاومات الضوء.
German[de]
Geräte und Werkstoffe für Plasmaätzverfahren, chemische Bedampfungsverfahren (CVD-Verfahren), Lithographie, Maskenlithographie, Masken und Fotolacke.
English[en]
Equipment and materials for plasma etch, chemical vapor deposition (CVD), lithography, mask lithography, masks, and photoresists.
Spanish[es]
Equipo y materiales para el grabado mediante plasma, la deposición química de vapor (CVD), la litografía, la litografía de máscara y la fotoresistencia;
Russian[ru]
установки и материалы для плазменного травления, химического осаждения паров (ХОП), литографии, шаблонов для литографии, шаблонов и фоторезистов;
Chinese[zh]
用于等离子体蚀刻、化学蒸汽沈积、平版印刷、掩模平版印刷、掩模