Metadata
Author: patents-wipo
Data
English[en]
Disclosed is a cleaning water for wafers comprising a substance with an affinity for metal ions being added to ultrapure water.
French[fr]
L'invention porte également sur une eau de nettoyage pour des tranches, laquelle eau comprend une substance avec une affinité aux ions métalliques qui est ajoutée à de l'eau ultra-pure.
Japanese[ja]
煩雑な操作を必要とすることなく、比較的簡単な操作で、ウエハの洗浄に使用する超純水中にng/L(ppt)レベルの金属イオンが存在していても、ウエハ表面を金属元素で汚染させることのないウエハの洗浄技術を提供する。