Metadata
Author: patents-wipo
Data
English[en]
At least the upper layer reflection preventing film (AL) or the lower layer reflection preventing film (SL) is etched so that the thicknesses of the reflection preventing films (AR) on the two photodiodes (PD) are different from each other.
French[fr]
Le film anti-réflexion de couche supérieure (AL) et/ou le film anti-réflexion de couche inférieure (SL) est gravé de manière à ce que les épaisseurs des films anti-réflexion (AR) sur les deux photodiodes (PD) soient différentes les unes des autres.
Japanese[ja]
2つのフォトダイオード(PD)上のそれぞれの反射防止膜(AR)の厚みが互いに異なるように、上層反射防止膜(AL)および下層反射防止膜(SL)の少なくともいずれかがエッチングされる。