Metadata
Author: patents-wipo
Data
English[en]
Provided is a plasma control device which can suppress overshoot of Pf power and Vpp power supplied to a base and perform etching with a high etching rate.
French[fr]
La présente invention concerne un dispositif de commande plasmatique qui peut supprimer le dépassement de la puissance Pf et de la puissance Vpp fournies à une base et qui peut réaliser une gravure à une vitesse élevée.
Japanese[ja]
Pf電力及び基台に供給するVpp電力のオーバーシュートが抑制される共に、高いエッチングレートでエッチングすることができるプラズマ制御装置を提供する。