Metadata
Author: ParaCrawl Corpus
Data
English[en]
Atomic layer deposition (ALD) is a possible solution for fabricating mixed-anion thin films with superior properties to bulk mixed-anion compounds.
Finnish[fi]
Atomikerroskasvatuksella (ALD) on mahdollista valmistaa korkealaatuisia useamman anionin ohutkalvoja, joilla on paremmat ominaisuudet kuin vastaavilla bulkkiyhdisteillä.