Metadata
Author: patents-wipo
Data
English[en]
The manufacturing method of the color filter (203) comprises the steps of: (a) providing a lower glass substrate (20) provided with a thin film transistor (201) array; (b) preparing a first insulation protective layer (202) on the thin film transistor (201) array; and (c) applying a photoetching process to prepare and obtain the color filter (203) on the first insulation protective layer (202).
French[fr]
Le procédé de fabrication du filtre coloré (203) comprend les étapes suivantes : (a) fourniture d'un substrat en verre inférieur (20) pourvu d'un réseau à transistor à film mince (201) ; (b) préparation d'une première couche protectrice d'isolation (202) sur le réseau à transistor à film mince (201) ; et c) application d'un procédé de photogravure pour préparer et obtenir le filtre coloré (203) sur la première couche protectrice d'isolation (202).
Chinese[zh]
一种彩色滤光片(203)的制作方法,包括步骤:(a)提供一具有薄膜晶体管(201)阵列的下玻璃基板(20);(b)在薄膜晶体管(201)阵列上制备第一绝缘保护层(202);(c)应用光刻工艺在所述第一绝缘保护层(202)上制备获得所述彩色滤光片(203);其中,所述光刻工艺包括制备彩色光阻层并对彩色光阻层进行曝光显影的步骤,进行曝光时采用了如前所述的曝光光罩(40)。