Metadata
Author: patents-wipo
Data
English[en]
Disclosed is a polyol compound for photoresists, which is characterized by having a structure wherein aliphatic groups and aromatic groups having a plurality of hydroxyl groups on an aromatic ring are bonded alternately.
French[fr]
L'invention concerne un composé polyol pour photorésines, caractérisé par une structure dans laquelle des groupes aliphatiques et des groupes aromatiques présentant plusieurs groupes hydroxyle sur un anneau aromatique sont reliés de manière alternée.
Japanese[ja]
本発明のフォトレジスト用ポリオール化合物は、脂肪族基と芳香環に水酸基を複数個有する芳香族基とが交互に結合していることを特徴とする。