Metadata
Author: patents-wipo
Data
English[en]
The powder plasma treatment apparatus is a powder plasma treatment apparatus for a cylindrical surface discharge plasma module, wherein the outer surface of the cylindrical surface discharge plasma module is a substrate-type electrode layer, an insulating layer is present on the inner surface side of the substrate-type electrode layer, a plasma generation electrode is positioned on the insulating layer and the cylindrical surface discharge plasma module rotates, plasma is generated in the vicinity of the plasma generation electrode when an AC voltage is applied to the plasma generation electrode and the substrate-type electrode layer, and powder for a plasma treatment is treated by the plasma in the cylindrical surface discharge plasma module.
French[fr]
L'appareil de traitement par plasma de poudre est un appareil de traitement par plasma de poudre pour un module de plasma de décharge de surface cylindrique, dans lequel la surface externe du module de plasma de décharge de surface cylindrique est une couche d'électrode du type substrat, une couche d'isolation est présente sur le côté de surface interne de la couche d'électrode du type substrat, une électrode de génération de plasma est positionnée sur la couche d'isolation et le module de plasma de décharge de surface cylindrique tourne, un plasma est généré au voisinage de l'électrode de génération de plasma lorsqu'une tension alternative est appliquée à l'électrode de génération de plasma et la couche d'électrode du type substrat, et une poudre pour un traitement par plasma est traitée par le plasma dans le module de plasma de décharge de surface cylindrique.
Korean[ko]
분말 플라즈마 처리 장치는, 원통형 면방전 플라즈마 모듈의 분말 플라즈마 처리 장치로서, 상기 원통형 면방전 플라즈마 모듈의 외면은 기판형 전극층이고, 상기 기판형 전극층의 내면 측으로 절연층이 있고, 상기 절연층 위에 플라즈마 발생 전극이 위치하며, 상기 원통형 면방전 플라즈마 모듈은 회전하고, 상기 플라즈마 발생 전극과 상기 기판형 전극층에 교류 전압이 인가되어, 상기 플라즈마 발생 전극 주위에 플라즈마가 발생되고, 플라즈마 처리를 위한 분말은 상기 원통형 면방전 플라즈마 모듈 내에서 상기 플라즈마에 의해 처리된다.