Metadata
Author: patents-wipo
Data
English[en]
A method for manufacturing an optical substrate comprises: a step (S0) for preparing a long film-shaped mold (80a); a step (S1) for preparing a sol solution; a step (S2) for forming a coating film (42) of the sol solution on the substrate; a step (S3) for drying the coating film; a step (S4) for pressing the pattern surface of the film-shaped mold against the dried coating film by a pressing roll (22) while feeding the film-shaped mold to the pressing roll; a step (S5) for peeling the film-shaped mold from the coating film; and a step (S6) for baking the coating film to which the concavo-convex pattern is transferred.
French[fr]
La présente invention concerne un procédé de fabrication d'un substrat optique comprenant : une étape (S0) de préparation d'un moule long en forme de film (80a); une étape (S1) de préparation d'une solution de sol; une étape (S2) de formation d'un film de revêtement (42) à partir de la solution de sol sur le substrat; une étape (S3) de séchage du film de revêtement; une étape (S4) de pressage de la surface à motifs du moule en forme de film contre le film de revêtement séché par un rouleau à presser (22), tout en faisant défiler le moule en forme de film sur le rouleau à presser; une étape (S5) de décollement du moule en forme de film du film de revêtement; et une étape (S6) de cuisson du film de revêtement sur lequel a été transféré le motif concavo-convexe.
Japanese[ja]
光学基板を製造する方法は、長尺状のフィルム状モールド(80a)を準備する工程S0と、ゾル溶液を調整する工程S1と、基板上にゾル溶液の塗膜(42)を形成する工程S2と、前記塗膜を乾燥する工程S3と、前記フィルム状モールドを押圧ロール(22)に送りこみながら、押圧ロールより前記乾燥した塗膜にフィルム状モールドのパターン面を押圧する工程S4と、前記フィルム状モールドを塗膜から剥離する工程S5と、前記凹凸パターンが転写された塗膜を焼成する工程S6とを有する。