Metadata
Author: patents-wipo
Data
English[en]
Provided is a laser exposure method for exposing by moving relatively a support base (2) for supporting a plurality of objects (works (5)) and a laser beam irradiating device (3) for irradiating the object with a laser beam while performing focus servo control based on a reflected light.
French[fr]
L'invention concerne un procédé d’exposition au laser destiné à exposer des objets par déplacement relatif d’une embase (2) de support servant à supporter une pluralité d’objets (pièces (5)) et d’un dispositif (3) émettant un faisceau laser en vue d’irradier l’objet au moyen d’un faisceau laser tout en réalisant une commande asservie de focalisation basée sur une lumière réfléchie.
Japanese[ja]
複数の対象物(ワーク5)を支持する支持台(2)と、反射光に基づくフォーカスサーボ制御を行いながら対象物にレーザ光を照射するレーザ光照射装置(3)とを、相対移動させて露光を行うレーザ露光方法を提供する。