Metadata
Author: patents-wipo
Data
English[en]
A lithographic apparatus comprising: an illumination system configured to condition a radiation beam; a support constructed to support a patterning device, the patterning device being capable of imparting the radiation beam with a pattern in its cross-section to form a patterned radiation beam; a substrate table constructed to hold a substrate W; a projection system PS configured to project the patterned radiation beam in an exposure slit at the focal plane on a target portion of the substrate W, wherein the projection system is provided with an optical element close to the exposure slit, and the apparatus further comprises a levelling system 10 for measuring a height of the substrate W on a position away from the exposure slit and a controller for controlling a position of the substrate table WT so that the substrate is in the focal plane of the projection system PS at the exposure slit.
French[fr]
Le système de projection est pourvu d'un élément optique à proximité de la fente d'exposition, et l'appareil comprend en outre un système de mise à niveau (10) pour mesurer une hauteur du substrat W à une position éloignée de la fente d'exposition et un contrôleur pour commander une position de la table de substrat WT de sorte que le substrat soit dans le plan focal du système de projection PS au niveau de la fente d'exposition.