Metadata
Author: patents-wipo
Data
English[en]
A two-step matching operation is carried out between combined information, into which first pattern information is combined with design information for a second pattern formed by the second exposure of double patterning, and displayed images of the first and second patterns, thereby making the method and device available for obtaining a deviated amount between the first and second patterns in accordance with a moving amount of the second pattern design information.
French[fr]
Une opération d'appariement en deux étapes est réalisée entre des informations combinées, dans laquelle des premières informations de motif sont combinées avec des informations de conception pour un second motif formé par la seconde exposition d'une double formation de motif, et des images affichées des premier et second motifs, ce qui permet ainsi au procédé et au dispositif d'obtenir une quantité d'écart entre les premier et second motifs conformément à une quantité de mouvement des informations de conception de second motif.
Japanese[ja]
上記目的を達成するために、第1パターンに関する情報と、ダブルパターニングの第2の露光によって形成される第2パターンの設計情報とを結合した結合情報と、第1パターンと第2パターンが表示された画像との間で、2段階のマッチングを行い、第2のパターンの設計情報の移動量に基づいて、第1パターンと第2パターンとの間のずれ量を求める方法、及び装置を提供する。