Besonderhede van voorbeeld: 1576979479238835129

English

Subdivision New processes for structuring nano-components; optical lithography based on 157 nm UV-laser light; development of mask-technology for nano-lithography; extrem UV

Spanish

Nuevos procesos de estructuración de nanocomponentes, litografía óptica con luz ultravioleta de láser de 157 nm, desarrollo de tecnologías de máscara para aplicaciones nanolitográficas, tecnología ultravioleta extrema