Metadata
Author: patents-wipo
Data
English[en]
Provided is a light irradiation device for crystallizing an amorphous silicon film inexpensively with no unevenness without using an eximer laser as an optical source.
French[fr]
La présente invention concerne un dispositif d'exposition à la lumière permettant de cristalliser un film en silicium amorphe de façon économique sans irrégularités et sans utiliser de laser excimer comme source optique.
Japanese[ja]
エキシマレーザを光源として用いることなく、アモルファスシリコンの膜をムラ無くかつ安価に結晶化させることのできる光照射装置を提供する。