Metadata
Author: patents-wipo
Data
English[en]
According to one embodiment of the present invention, a substrate processing apparatus comprises: a chamber in which a substrate is transferred through a path formed at one side thereof, providing an inner space in which processing for the substrate is performed, and having a supply port, which supplies gas to the inner space, formed on the opposite side of the path; a susceptor provided in the inner space and in which the substrate is positioned at the upper part thereof; and a diffusion member provided between the susceptor and the sidewall of the chamber so as to be adjacent to the supply port and having a plurality of diffusion holes for diffusing the gas supplied through the supply port.
French[fr]
Selon un mode de réalisation de la présente invention, un appareil de traitement de substrat comprend : une chambre dans laquelle un substrat est transféré par une voie formée au niveau d'un côté de celle-ci, créant un espace interne dans lequel est effectué le traitement du substrat, et comportant un orifice d'alimentation, qui envoie le gaz dans l'espace interne, et qui est formé sur le côté opposé de la voie ; un suscepteur disposé dans l'espace interne et dans lequel le substrat est positionné au niveau de sa partie supérieure ; et un élément de diffusion disposé entre le suscepteur et la paroi latérale de la chambre de façon à être adjacent à l'orifice d'alimentation et comportant une pluralité de trous de diffusion permettant de diffuser le gaz envoyé par l'orifice d'alimentation.
Korean[ko]
본 발명의 일 실시예에 의하면, 기판 처리 장치는, 일측에 형성된 통로를 통해 기판이 이송되며, 상기 기판에 대한 공정이 이루어지는 내부공간을 제공하는, 그리고 상기 내부공간에 가스를 공급하는 공급포트가 상기 통로의 반대측에 형성된 챔버; 상기 내부공간에 설치되며, 상기 기판이 상부에 놓여지는 서셉터; 그리고 상기 공급포트에 인접하도록 상기 서셉터와 상기 챔버의 측벽 사이에 설치되며, 상기 공급포트를 통해 공급된 상기 가스를 확산하는 복수의 확산홀들을 가지는 확산부재를 포함한다.