Metadata
Author: MultiUn
Data
English[en]
For example, Chemical Vapour Deposition (CVD) coating process technical data are controlled for the application of 'silicides' to 'Carbon-carbon, Ceramic and Metal "matrix" "composites"' substrates, but are not controlled for the application of 'silicides' to 'Cemented tungsten carbide , Silicon carbide ' substrates
Spanish[es]
Por ejemplo, los datos técnicos del proceso de revestimiento de deposición por vapores químicos (CVD) están sometidos a control para la aplicación de sustratos de “materiales compuestos” de “carbono-carbono, cerámica y matriz metálica”, pero no están sometidos a control para la aplicación de “siliciuros” a sustratos de “carburo de tungsteno cementado y carburo de silicio ”
French[fr]
Par exemple, les données techniques concernant le procédé de revêtement par dépôt chimique en phase vapeur (CVD) sont visées dans le cas du dépôt de « siliciures » sur des substrats de type « carbone-carbone et matériaux “composites” à “matrice” céramique et à “matrice” métallique » mais ne sont pas contrôlées dans le cas de l'application de « siliciures » sur des substrats à base de « carbure de tungstène cémenté et de carbure de silicium »
Russian[ru]
Например, в результате обработки подложки типа «углерод-углерод, керамика и композиционные материалы с металлической матрицей» путем химического осаждения паров (CVD) может быть получено силицидное покрытие, которое не может получиться при том же способе нанесения покрытия на подложку типа «цементированный карбид вольфрама , карбид кремния »
Chinese[zh]
例如:化学蒸气淀积(CVD) 镀层工艺技术数据被控制用于“硅化物”到碳-碳、陶瓷和金属“基”“复合材料”基体。