Metadata
Author: patents-wipo
Data
English[en]
The method for producing a transfer mask additionally comprises a cleaning step in which the thus-produced transfer mask is subjected to one or more kinds of cleaning processes selected from among alkaline solution cleaning, hot water cleaning and ozone-containing water cleaning until the pattern width of the thin film for pattern formation is reduced by 4 nm or the space width of the thin film for pattern formation is increased by 4 nm.
French[fr]
Le procédé de réalisation d'un masque de transfert englobe en outre une opération de nettoyage consistant à soumettre le masque de transfert ainsi réalisé à un ou plusieurs types de nettoyage - nettoyage au moyen d'une solution alcaline, nettoyage à l'eau très chaude et nettoyage avec de l'eau contenant de l'ozone - jusqu'à ce que a largeur du motif transférée sur le film mince soit réduite de 4 nm ou que la largeur de l'espace pour formation de motif sur le film mince soit accrue de 4 nm.
Japanese[ja]
本製造方法は更に、作製した転写用マスクに対しアルカリ溶液洗浄、温水洗浄、オゾン含有水洗浄のうち1以上の洗浄工程を、前記パターン形成用薄膜のパターン幅が4nm減少するまで、あるいは前記パターン形成用薄膜のスペース幅が4nm増加するまで行う洗浄工程を有する。