Metadata
Author: patents-wipo
Data
English[en]
According to the present invention, the preparation method of a three-dimensional nanostructure can prepare a three-dimensional nanostructure having a high aspect ratio and uniformity through a simple low cost process by applying ion bombardment through a physical ion etching process, and can easily prepare various shapes of structures and can form a uniform nanostructure having a large area and a thickness of 10 nm or less by controlling the pattern and shape of a polymer structure at the same time.
French[fr]
Selon la présente invention, le procédé de préparation d'une nanostructure tridimensionnelle peut préparer une nanostructure tridimensionnelle qui présente un rapport largeur/longueur élevé ainsi qu'une grande uniformité grâce à un processus simple et peu coûteux consistant à appliquer un bombardement ionique au moyen d'un processus de gravure ionique physique, peut préparer facilement différentes formes de structures et peut créer une nanostructure uniforme présentant une surface importante ainsi qu'une épaisseur de 10 nm ou moins à l'aide du contrôle simultané du motif et de la forme d'une structure polymère.
Korean[ko]
본 발명은 3차원 나노구조체 및 그 제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는, 패턴화된 고분자 구조체의 외주면에 물리적 이온 식각공정을 통한 이온 봄바드먼트(ion bombardment) 현상을 적용하여 목적물질을 부착시킨 목적물질-고분자 복합구조체를 형성시킨 다음, 상기 목적물질-고분자 복합구조체의 고분자를 제거하여 나노구조체를 제조함으로써, 대면적으로 고 종횡비와 균일성을 가지는 다양한 형상의 3차원 나노 구조체 및 그 제조방법에 관한 것이다.